**Christophe Fouquet, CEO de ASML, advirtió a Financial Times que la presión de Estados Unidos y sus aliados sobre la industria china de semiconductores podría 'acabar creando un competidor' capaz de fabricar equipos de litografía de ultravioleta extremo (EUV), erosionando el monopolio tecnológico de la empresa neerlandesa.**
El director general sostuvo que hoy solo una compañía, ASML, fabrica estas máquinas de alta precisión, un monopolio que Canon y Nikon intentaron romper en la década pasada sin éxito debido a la complejidad técnica y los costos. Asimismo, Fouquet reconoció que esta posición de dominio podría verse comprometida si China logra desarrollar sus propios equipos EUV como respuesta a las restricciones de exportación impuestas por Washington y Bruselas.
Además, los reportes indican que Beijing invierte recursos significativos en este objetivo, con un prototipo operando en laboratorios de alta seguridad en Shenzhen. Según Reuters, el equipo está coordinado por Huawei y equipos de investigadores de la Universidad de Beihang y el Instituto de Tecnología de Harbin, quienes buscan alcanzar la producción de chips para 2028 y la fabricación a gran escala antes de 2030, utilizando fuentes de luz láser de estado sólido que difieren de la tecnología LPP de ASML.
